Gate-tunable high-performance broadband phototransistor array of two-dimensional PtSe2 on SOI

响应度 光电二极管 光电子学 材料科学 光探测 光电探测器 绝缘体上的硅 异质结
作者
Yexin Chen,Qinghai Zhu,Xiaodong Zhu,Yijun Sun,Zhiyuan Cheng,Jing Xu,Mingsheng Xu
出处
期刊:Nano Research [Springer Science+Business Media]
卷期号:16 (5): 7559-7567 被引量:27
标识
DOI:10.1007/s12274-022-5312-4
摘要

Two-dimensional (2D) layered materials have attracted extensive research interest in the field of high-performance photodetection due to their high carrier mobility, tunable bandgap, stability, and other excellent properties. Herein, we propose a gate-tunable, high-performance, self-driving, and wide detection range phototransistor based on a 2D PtSe2 on silicon-on-insulator (SOI). Benefiting from the strong built-in electric field of the PtSe2/Si heterostructure, the phototransistor has a fast response time (rise/fall time) of 36.7/32.6 µs. The PtSe2/Si phototransistor exhibits excellent photodetection performance over a broad spectral range from ultraviolet to near-infrared, including a responsivity of 1.07 A/W and a specific detectivity of 6.60 × 109 Jones under 808 nm illumination at zero gate voltage. The responsivity and specific detectivity of PtSe2/Si phototransistor at 5 V gate voltage are increased to 13.85 A/W and 1.90 × 1010 Jones under 808 nm illumination. Furthermore, the fabricated PtSe2/Si phototransistor array shows excellent uniformity, reproducibility, and long-term stability in terms of photoresponse performance with negligible variation between pixel cells. The architecture of present PtSe2/Si on SOI platform paves a new way of a general strategy to realize high-performance photodetectors by combining the advantages of both 2D materials and conventional semiconductors which is compatible with current Si-complementary metal oxide semiconductor (CMOS) process.
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