Low damage atomic layer etching technology for gate recessed fabrication

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作者
Jie-He Guo,Wei Ke,Shengli Zhang,Xin He,Yan Zhang,R.Z. Zhang,Jincheng Wang,Kaiyou Wang,Sen Huang,Yue Zheng,Xinhua Wang,Xiaojing Liu
出处
期刊:Vacuum [Elsevier BV]
卷期号:217: 112591-112591 被引量:5
标识
DOI:10.1016/j.vacuum.2023.112591
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