Enriching oxygen vacancies in hematite (α-Fe2O3) films with Cu impurities for resistive switching applications

赤铁矿 杂质 氧气 材料科学 电阻式触摸屏 凝聚态物理 光电子学 冶金 化学 电气工程 物理 工程类 有机化学
作者
T. Susikumar,M. Navaneethan,Sujaya Kumar Vishwanath,P. Justin Jesuraj
出处
期刊:Journal of Materials Science: Materials in Electronics [Springer Nature]
卷期号:35 (8) 被引量:3
标识
DOI:10.1007/s10854-024-12377-y

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