Reliable high-temperature ferroelectric memories based on Hf0.5Zr0.5O2 film

材料科学 铁电性 复合材料 工程物理 光电子学 电介质 工程类
作者
Nannan Liu,Yuanyang Liu,Hongdi Wu,Jiaquan Fang,Wenbin Tang,Xubing Lu,Z. B. Yan,Jun‐Ming Liu,Guoliang Yuan
出处
期刊:Ceramics International [Elsevier BV]
标识
DOI:10.1016/j.ceramint.2025.02.092
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