Quantifying the ultimate limit of plasmonic near-field enhancement

极限(数学) 等离子体子 领域(数学) 计算机科学 物理 光电子学 数学 纯数学 数学分析
作者
Zhengyi Lu,Jiamin Ji,Haiming Ye,Hao Zhang,Shunping Zhang,Hongxing Xu
出处
期刊:Nature Communications [Nature Portfolio]
卷期号:15 (1)
标识
DOI:10.1038/s41467-024-53210-8
摘要

Quantitatively probing the ultimate limit of near-field enhancement around plasmonic nanostructures remains elusive, despite more than five decades since the discovery of surface-enhanced Raman scattering. Theoretical calculations have predicted an ultimate near-field enhancement exceeding 1000 using the best plasmonic material silver, but experimental estimations disperse by orders of magnitude. Here, we design a high-quality silver plasmonic nanocavity with atomic precision and precisely quantify the upper limit of near-field enhancement in ~1 nm junctions. A hot-spot averaged Raman enhancement of 4.27 × 1010 is recorded with a small fluctuation, corresponding to an averaged electric field enhancement larger than 1000 times. This result quantitatively delineates the ultimate limit of plasmonic field enhancement around plasmonic nanostructures, establishing a foundation for diverse plasmon-enhanced processes and strong light-matter interactions at the atomic scale. The authors develop a quantitative probe for plasmonic near-field enhancement in a ~ 1 nm gap based on a MoS2-spaced silver nanocube-on-mirror nanocavity. They derive an enhancement factor of ~1644, representing an upper limit for local near-field plasmonic enhancement in the visible/near-infrared.
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