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Growth and analysis of low-resistivity polycrystalline SiC using the PVT method

材料科学 薄脆饼 微晶 电阻率和电导率 热的 过程（计算） 热导率 领域（数学） 复合材料 光电子学 碳化硅 冶金 工作（物理）
作者
Anqi Wang,Xuefeng Han,Xiaodong Pi,Fan Weijun,Binjie Xu,Lingling Xuan,Shenzhou Lu,Deren Yang
出处
期刊：CrystEngComm [Royal Society of Chemistry]
日期：2025-12-03 卷期号：28 (3): 706-713
标识
DOI：10.1039/d5ce00878f
摘要
Poly-SiC wafers with resistivity down to 12 mΩ cm were successfully prepared via PVT process by redesigning the thermal field and optimizing growth parameters and post-growth processing.
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