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Effects of Hydroxylation and Silanization on the Surface Properties of ZnO Nanowires

硅烷化 材料科学 X射线光电子能谱 接触角 纳米线 表面改性 工作职能 化学工程 分析化学(期刊) 纳米技术 复合材料 化学 有机化学 图层(电子) 工程类
作者
C. García‐Núñez,Matthias Sachsenhauser,B. Blashcke,Antonio García Marín,José A. Garrido,J. L. Pau
出处
期刊:ACS Applied Materials & Interfaces [American Chemical Society]
卷期号:7 (9): 5331-5337 被引量:14
标识
DOI:10.1021/am508752m
摘要

Silanization is commonly used to form bonds between inorganic materials and biomolecules as a step in the surface preparation of solid-state biosensors. This work investigates the effects of silanization with amino-propyldiethoxymethylsilane on hydroxylated sidewalls of zinc oxide (ZnO) nanowires (NWs). The surface properties and electrical characteristics of NWs are analyzed by different techniques after their hydroxylation and later silanization. Contact angle measurements reveal a stronger hydrophobic behavior after silanization, and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) results show a reduction of the surface dipole induced by the replacement of the hydroxyl group with the amine terminal group. The lower work function obtained after silanization in contact potential measurements corroborates the attenuation of the surface dipole observed in XPS. Furthermore, the surface band bending of NWs is determined from surface photovoltage measurements upon irradiation with UV light, yielding a 0.5 eV energy in hydroxylated NWs, and 0.18 eV, after silanization. From those results, a reduction in the surface state density of 3.1 × 10(11) cm(-2) is estimated after silanization. The current-voltage (I-V) characteristics measured in a silanized single NW device show a reduction of the resistance, due to the enhancement of the conductive volume inside the NW, which also improves the linearity of the I-V characteristic.
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