Kinetics of the reaction between diamond and silicon at high pressure and temperature

钻石 石墨 活化能 材料科学 碳化硅 碳纤维 扩散 化学工程 金刚石材料性能 复合材料 冶金 化学 热力学 物理化学 复合数 工程类 物理
作者
Cristian Pantea,G. A. Voronin,T. W. Żerda
出处
期刊:Journal of Applied Physics [American Institute of Physics]
卷期号:98 (7) 被引量:9
标识
DOI:10.1063/1.2077845
摘要

Diamond-silicon carbide composites were sintered from diamond powder and liquid silicon at high pressure-high temperature (HPHT) conditions. Experiments were conducted in the diamond-stable region and then repeated in the graphite-stable region. X-ray diffractograms of the specimens sintered for different time periods provided information on the SiC formation rate and activation energy. Only the late stage of the reaction was investigated, and in the diamond-stable region it was shown that SiC growth was controlled by the diffusion rate of silicon and carbon atoms though the existing layer of SiC. This process is characterized by an activation energy of 264kJ∕mol. At 2GPa, where graphite is the stable form of carbon, in addition to the direct reaction, diamond may first spontaneously transform into graphite, which next reacts with silicon. A combination of these two processes results in a higher activation energy of 410kJ∕mol.
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