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Computer simulation of resist profiles at electron beam nanolithography

作者
Katia Vutova,Elena Georgieva Koleva,Georgy M. Mladenov,Ivan Kostic,Takeshi Tanaka
出处
期刊:Microelectronic Engineering [Elsevier BV]
卷期号:87 (5-8): 1108-1111 被引量:6
标识
DOI:10.1016/j.mee.2009.11.045

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