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Effects of Interphase Modification and Biaxial Orientation on Dielectric Properties of Poly(ethylene terephthalate)/Poly(vinylidene fluoride-co-hexafluoropropylene) Multilayer Films

材料科学 电介质 六氟丙烯 复合材料 相间 无定形固体 表面能 介电损耗 相(物质) 介电强度 聚合物 四氟乙烯 结晶学 有机化学 共聚物 光电子学 化学 生物 遗传学
作者
Kai Yin,Zheng Zhou,D. E. Schuele,Mason A. Wolak,Lei Zhu,E. Baer
出处
期刊:ACS Applied Materials & Interfaces [American Chemical Society]
卷期号:8 (21): 13555-13566 被引量:85
标识
DOI:10.1021/acsami.6b01287
摘要

Recently, poly(vinylidene fluoride) (PVDF)-based multilayer films have demonstrated enhanced dielectric properties, combining high energy density and high dielectric breakdown strength from the component polymers. In this work, further enhanced dielectric properties were achieved through interface/interphase modulation and biaxial orientation for the poly(ethylene terephthalate)/poly(methyl methacrylate)/poly(vinylidene fluoride-co-hexafluoropropylene) [PET/PMMA/P(VDF-HFP)] three-component multilayer films. Because PMMA is miscible with P(VDF-HFP) and compatible with PET, the interfacial adhesion between PET and P(VDF-HFP) layers should be improved. Biaxial stretching of the as-extruded multilayer films induced formation of highly oriented fibrillar crystals in both P(VDF-HFP) and PET, resulting in improved dielectric properties with respect to the unstretched films. First, the parallel orientation of PVDF crystals reduced the dielectric loss from the αc relaxation in α crystals. Second, biaxial stretching constrained the amorphous phase in P(VDF-HFP) and thus the migrational loss from impurity ions was reduced. Third, biaxial stretching induced a significant amount of rigid amorphous phase in PET, further enhancing the breakdown strength of multilayer films. Due to the synergistic effects of improved interfacial adhesion and biaxial orientation, the PET/PMMA/P(VDF-HFP) 65-layer films with 8 vol % PMMA exhibited optimal dielectric properties with an energy density of 17.4 J/cm(3) at breakdown and the lowest dielectric loss. These three-component multilayer films are promising for future high-energy-density film capacitor applications.
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