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Facile Two‐Step van der Waals Epitaxial Growth of Bi2S3/ReS2 Heterostructure with Improved Saturable Absorption

材料科学 异质结 X射线光电子能谱 化学气相沉积 光子学 光电子学 吸收(声学) 外延 范德瓦尔斯力 吸收光谱法 饱和吸收 纳米技术 光学 分子 化学工程 化学 物理 图层(电子) 波长 有机化学 复合材料 工程类 光纤激光器
作者
Chunhui Lu,Mingwei Luo,Dan Yang,Jingyao Ma,Mei Qi,Xinlong Xu
出处
期刊:Advanced Materials Interfaces [Wiley]
卷期号:8 (20) 被引量:10
标识
DOI:10.1002/admi.202100913
摘要

Abstract 2D van der Waals (vdW) heterostructure provides a novel platform to modulate linear and nonlinear optical (NLO) properties for optical devices by interface engineering. However, NLO properties and mechanisms based on vdW heterostructures are far from complete understanding. Herein, two‐step vdW vapor epitaxial growth by either physical or chemical vapor deposition methods is successfully demonstrated to synthesize uniform Bi 2 S 3 /ReS 2 vdW heterostructures in large area. Type‐II band‐alignment of these heterostructures is confirmed by X‐ray photoelectron spectroscopy combined with the UV–Vis spectra. The enhanced NLO response of Bi 2 S 3 /ReS 2 films is observed with high saturable absorption coefficient (≈−445 cm GW −1 ), large modulation depth (≈10.5%), and low saturation intensity (≈105 GW cm −2 ). Energy level model based on type‐II charge transfer process is used successfully to understand the optical physics process at the interface of the vdW heterostructures. Constructing heterostructures with two‐step vdW vapor epitaxial growth provides a new method to design high‐performance nonlinear photonic devices with 2D materials.
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