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Fluorination of silicon carbide thin films using pure F2 gas or XeF2

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作者
Nicolas Batisse,Katia Guérin,Marc Dubois,A. Hamwi,Laurent Spinelle,E. Tomasella
出处
期刊：Thin Solid Films [Elsevier]
日期：2010-06-09 卷期号：518 (23): 6746-6751 被引量：28
标识
DOI：10.1016/j.tsf.2010.05.120
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