Features of the Kinetics of Bulk and Heterogeneous Processes in CHF3 + Ar and C4F8 + Ar Plasma Mixtures

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作者
Д. Б. Мурин,Alexander Efremov,Kwang‐Ho Kwon
出处
期刊:Russian Microelectronics [Pleiades Publishing]
卷期号:48 (2): 99-106 被引量:9
标识
DOI:10.1134/s1063739719020070

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