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射频溅射FeTaN纳米晶软磁薄膜结构和磁性
田
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作者
Zheng Dai-shun,
Tian Xie,
Bai Jian-min,
Fulin Wei,
Zheng Yang
出处
期刊:
Chinese Physics
[Science Press]
日期:2002-01-01
卷期号:51 (4): 908-908
标识
DOI:10.7498/aps.51.908
摘要
摘要 用射频反应溅射制备了FeTaN纳米晶软磁薄膜.研究了薄膜结构和磁性与制备条件的依赖关系.研究发现,当Ta的含量较高时,在N2+Ar混合气氛中易形成沉积态薄膜的非晶结构.适当的热处理后,αFe纳米晶从中晶化生成.薄膜显示出优良的软磁特性 关键词: 纳米晶 软磁性 非晶态 Abstract Keywords: 作者及机构信息 郑代顺, 谢天, 白建民, 魏福林, 杨正 1. 兰州大学磁性材料研究所,兰州730000 Authors and contacts Zheng Dai-Shun, Xie Tian, Bai Jian-Min, Wei Fu-Lin, Yang Zheng 1. 兰州大学磁性材料研究所,兰州730000 参考文献 施引文献
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