Challenges in dry etching: uniformity, selectivity, pattern dependencies, damage, and cleaning

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作者
Herbert H. Sawin
出处
期刊:Microelectronic Engineering [Elsevier BV]
卷期号:23 (1-4): 15-21 被引量:3
标识
DOI:10.1016/0167-9317(94)90100-7

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