A Study on the Advanced Chip to Wafer Stack for Better Thermal Dissipation of High Bandwidth Memory

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作者
S.-H. Lee,Jin-Woo Park,Jeong-Tak Moon,Minsuk Kim,Gyujei Lee,Kangwook Lee
标识
DOI:10.1109/ectc51909.2023.00151
摘要

One of the technical challenges in 2.5D SiP is thermal issue increase with higher performance. In this paper, mass reflow bonding with molded underfll process for chip to wafer stacking of HBM was studied. MUF material and key process parameters were optimized, and 8Hi HBM was successfully demonstrated through MR-MUF method. PKG reliability was verified, and thermal characteristic of HBM was also evaluated. Using MR-MUF method, the maximum junction temperature of memory chips was reduced by 14°C comparing that of HBM using TC-NCF method at the same DRAM operation condition.
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