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Generation of Pad Debris during Oxide CMP Process and Its Role in Scratch Formation

刮擦 碎片 材料科学 氧化物 过程（计算） 法律工程学 纳米技术 复合材料 地质学 冶金 计算机科学 工程类 操作系统 海洋学
作者
Y. Nagendra Prasad,Tae-Young Kwon,In-Kwon Kim,In-Gon Kim,Jin-Goo Park
出处
期刊：Journal of The Electrochemical Society [The Electrochemical Society]
日期：2011-04-01 卷期号：158 (4): H394-H394 被引量：25
标识
DOI：10.1149/1.3551507
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