Midgap states and band gap modification in defective graphene/h-BN heterostructures

石墨烯 异质结 材料科学 带隙 光电子学 氮化硼 纳米技术
作者
B. Sachs,Tim O. Wehling,M. I. Katsnelson,A. I. Lichtenstein
出处
期刊:Physical review [American Physical Society]
卷期号:94 (22) 被引量:26
标识
DOI:10.1103/physrevb.94.224105
摘要

The role of defects in van der Waals heterostructures made of graphene and hexagonal boron nitride (h-BN) is studied by a combination of ab initio and model calculations. Despite the weak van der Waals interaction between layers, defects residing in h-BN, such as carbon impurities and antisite defects, reveal a hybridization with graphene p$_{\rm z}$ states, leading to midgap state formation. The induced midgap states modify the transport properties of graphene and can be reproduced by means of a simple effective tight-binding model. In contrast to carbon defects, it is found that oxygen defects do not strongly hybridize with graphene's low-energy states. Instead, oxygen drastically modifies the band gap of graphene, which emerges in a commensurate stacking on h-BN lattices.
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