Monolithically integrated optical gate 2 × 2 matrix switch using GaAs/AlGaAs multiple quantum well structure

光电子学 材料科学 光开关 串扰 砷化镓 电子线路 蚀刻(微加工) 光学 物理 电气工程 纳米技术 工程类 图层(电子)
作者
A. Ajisawa,M. Fujiwara,J. Shimizu,M. Sugimoto,M. Uchida,Y. Ohta
出处
期刊:Electronics Letters [Institution of Engineering and Technology]
卷期号:23 (21): 1121-1122 被引量:19
标识
DOI:10.1049/el:19870782
摘要

A 2 × 2 optical matrix switch, monolithically integrating multiple-quantum-well-gate and optical circuits fabricated by the reactive-ion-beam etching method, is described. The switch size is small, 3 mm × 1.2 mm. Low crosstalk of 20 dB at 12 V is achieved.
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