Low temperature TiN deposition by ICP-assisted chemical vapor deposition

材料科学 化学气相沉积 沉积(地质) 离子镀 燃烧化学气相沉积 化学工程 混合物理化学气相沉积 冶金 纳米技术 薄膜 碳膜 古生物学 沉积物 工程类 生物
作者
Dong-Kak Lee,Jung-Joong Lee,Junghoon Joo
出处
期刊:Surface & Coatings Technology [Elsevier BV]
卷期号:174-175: 1234-1237 被引量:19
标识
DOI:10.1016/s0257-8972(03)00472-9
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