In-situ CLSM characterization of deformation and fracture behavior of (Cu, Cr) metal thin films on flexible substrates

材料科学 复合材料 双层 溅射沉积 聚酰亚胺 极限抗拉强度 薄膜 图层(电子) 柔性电子器件 基质(水族馆) 聚合物基片 溅射 纳米技术 地质学 海洋学 生物 遗传学
作者
Xiuli Xue,Chao-Feng Zeng,Shi‐Bin Wang,Linan Li
出处
期刊:Surface topography [IOP Publishing]
卷期号:10 (2): 025001-025001 被引量:5
标识
DOI:10.1088/2051-672x/ac6277
摘要

Abstract Magnetron sputter deposited Cu thin films on an insulating polymer substrate such as polyimide are frequently used as flexible printed circuits. Understanding the tensile behavior of films deposited on polymer substrates is critical to optimize them for applications requiring flexibility. In this study, single layer copper, chromium (Cu, Cr) films, and Cu/Cr bilayer films were deposited on flexible polyimide substrates by magnetron sputtering. The mechanical behavior of these systems was investigated under tensile loading using the advanced in situ confocal laser scanning microscope (CLSM) technique. The results demonstrate that the buckled shapes, crack density and crack spacing are closely related to the film material and film thickness. The Cr interlayer greatly influences the cracking behavior of the overlying ductile Cu film. Moreover, the in situ tensile experiments indicate that the crack density of the film is obviously related to the loading rate. The findings in this work provide a qualitative guidance for the material selection and structural optimization of metal-based single layer and bilayer flexible electronics.
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