Modification of the Se/MoOx Rear Interface for Efficient Wide-Band-Gap Trigonal Selenium Solar Cells

材料科学 三角晶系 带隙 三角棱镜分子几何学 结晶学 纳米技术 工程物理 光电子学 无机化学 冶金 晶体结构 八面体 物理 化学
作者
Feixiong Bao,Lianglan Liu,Xin‐Long Wang,Bing Xiao,Ross Inglis,Huidong Yang,Kai Shen,Yaohua Mai
出处
期刊:ACS Applied Materials & Interfaces [American Chemical Society]
被引量:1
标识
DOI:10.1021/acsami.4c15892
摘要

Trigonal selenium (t-Se) is a promising wide-band-gap photovoltaic material with a high absorption coefficient, abundant resources, simple composition, nontoxicity, and a low melting point, making it suitable for absorbers in advanced indoor and tandem photovoltaic applications. However, severe electrical losses at the rear interface of the t-Se absorber, caused by work function and lattice mismatches, limit the voltage output and overall performance. In this study, a strategy to enhance carrier transport and collection by modifying interfacial chemical interactions is proposed. By applying a controlled heat process during the deposition of the MoOx hole transport layer, a chemical interaction at the t-Se/MoOx interface can be facilitated. This results in the formation of an interfacial MoSex layer, leading to improved valence band alignment and reduced barrier and recombination losses. As a result, the performance of t-Se thin-film solar cells is improved compared to those without the heating process.
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