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Formation of polymeric layer during silicon etching in CF2Cl2 plasma
作者
A. Grigonis,
Rimantas Knizikevičius,
Ž. Rutkūnien≐,
Darius Tribandis
出处
期刊：
Vacuum
[Elsevier BV]
日期：2003-03-01
卷期号：70 (2-3): 319-322
被引量：9
标识
DOI：10.1016/s0042-207x(02)00662-0
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