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Fabrication and Performance Limits of Sub-0.1 µm Cu Interconnects

材料科学 电阻率和电导率 粒度 化学机械平面化 表面粗糙度 激光线宽 制作 复合材料 表面光洁度 蚀刻(微加工) 薄膜 纳米技术 光学 图层(电子) 医学 激光器 物理 替代医学 病理 电气工程 工程类
作者
T. S. Kuan,C. K. Inoki,G. S. Oehrlein,Kenneth Rose,Yiping Zhao,G. –C. Wang,S. M. Rossnagel,C. Cabral
出处
期刊:MRS Proceedings [Cambridge University Press]
卷期号:612 被引量:78
标识
DOI:10.1557/proc-612-d7.1.1
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