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Carrier Compensation ofn-GaAs by Oxygen Ion Implantation

氧气 补偿(心理学) 离子注入 离子 材料科学 光电子学 工程物理 化学 物理 心理学 有机化学 精神分析
作者
Tadatsugu Itoh,Toshiaki Tsuchiya,Masami Takeuchi
出处
期刊:Japanese Journal of Applied Physics [Institute of Physics]
卷期号:15 (11): 2277-2278 被引量:10
标识
DOI:10.1143/jjap.15.2277

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