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Analysis of plasma etching resistance for commercial quartz glasses used in semiconductor apparatus in fluorocarbon plasma

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作者
Jae Ho Choi,JiSob Yoon,YoonSung Jung,Kyung Won Min,Won Bin Im,Hyeong-Jun Kim
出处
期刊：Materials Chemistry and Physics [Elsevier]
日期：2021-07-13 卷期号：272: 125015-125015 被引量：20
标识
DOI：10.1016/j.matchemphys.2021.125015
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