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TCAD leakage current analysis of a 45 nm MOSFET structure with a high-k dielectric

材料科学 跨导 光电子学 泄漏（经济） 栅氧化层 电介质 栅极电介质 量子隧道 MOSFET 随时间变化的栅氧化层击穿 阈值电压 饱和电流 高-κ电介质 负偏压温度不稳定性 电压 电气工程 晶体管 工程类 宏观经济学 经济
作者
Konstantin O. Petrosyants,Д. А. Попов,Lev M. Sambursky,I. A. Kharitonov
出处
期刊：Russian Microelectronics [Pleiades Publishing]
日期：2016-12-01 卷期号：45 (7): 460-463 被引量：1
标识
DOI：10.1134/s106373971607012x
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