Experimental and Numerical Investigations of Short-Circuit Failure Mechanisms for State-of-the-Art 1.2kV SiC Trench MOSFETs

沟槽 MOSFET 电气工程 失效机理 功率MOSFET 材料科学 阈值电压 电压 碳化硅 光电子学 电子工程 计算机科学 工程类 晶体管 纳米技术 图层(电子) 复合材料 冶金
作者
Masataka Okawa,Ruito Aiba,Taiga Kanamori,Hiroshi Yano,Noriyuki Iwamuro,Shinsuke Harada
标识
DOI:10.1109/ispsd.2019.8757617
摘要

This paper is focused on the short-circuit capability and analysis of failure mechanism on relatively small DC power supply voltage for state-of-the-art 1.2 kV SiC trench MOSFETs. It is found that the gate-source SiO 2 rapture could be a failure mechanism unique to the SiC MOSFETs. Further, the SiC trench MOSFETs with higher threshold voltage can effectively improve the short-circuit capabilities by reducing the probability of channel normally-on induced by the higher lattice temperature.

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