Surface modification for improvement of crystallinity of MoS2 using ultraviolet–ozone treatment

结晶度 材料科学 紫外线 臭氧 表面改性 紫外线a 化学工程 光电子学 光化学 复合材料 气象学 医学 物理 皮肤病科 化学 工程类
作者
Yujin Jang,Ji‐In Park,Ji Yeong Sung,Hyun Uk Lee,Jae-Yeong Lee,Kyoo Sung Shim,Jong‐Seong Bae,Yesul Jeong
出处
期刊:Surfaces and Interfaces [Elsevier BV]
卷期号:53: 105067-105067 被引量:3
标识
DOI:10.1016/j.surfin.2024.105067
摘要

The efficiency of ultraviolet–ozone (UVO) treatment as a surface modification method for improving the crystallinity of MoS 2 thin films was studied. MoS 2 thin films were prepared using a multi-step chemical vapor deposition method, and highly crystalline MoS 2 thin films were grown by varying the UVO exposure time of molybdenum trioxide (MoO 3 ) thin films with unstable Mo-O bonds. X-ray diffraction results revealed that the crystallinity of MoS 2 thin films improved with increasing UVO exposure time, but long-term exposure (> 5 min) decreased crystallinity due to surface etching. Cross-sectional transmission electron microscopy images of MoS 2 thin films also showed that short-term UVO exposure (5 min) led to significant surface crystallization without structural defects. In contrast, long-term exposure caused damage to crystal layers. The short-term UVO exposure to unstable MoO 3 thin films induces the formation of many highly reactive MoO 3 - groups, which then react with sulfur to form highly crystalline MoS 2 thin films. These results were confirmed by X-ray photoelectron spectroscopy and time-of-flight secondary ion mass spectrometry analysis. Overall, this study improved the crystallinity of the MoS 2 thin films by increasing the crystallinity of the MoO 3 thin films using a simple and short-term UVO treatment, and these results are attracting attention for their potential application in various industrial fields.
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