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2023-01-14 加入
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Investigation of Optimum Deposition Conditions of Radio Frequency Reactive Magnetron Sputtering of Al0.7Sc0.3N Film with Thickness down to 20 nm
3个月前
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CMOS‐Compatible ScAlN Ferroelectric Thin Films with Enhanced Polarization for High‐Performance FeFET Memory and Artificial Synapses
3个月前
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3个月前
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3个月前
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Investigation of Optimum Deposition Conditions of Radio Frequency Reactive Magnetron Sputtering of Al0.7Sc0.3N Film with Thickness down to 20 nm
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