| 标题 |
Diamondlike carbon thin film fabrication by plasma-enhanced chemical vapor deposition using CH4/N2 gas mixtures for use as a hard mask 相关领域
材料科学
化学气相沉积
制作
碳膜
等离子体
薄膜
碳纤维
燃烧化学气相沉积
等离子体增强化学气相沉积
沉积(地质)
等离子体处理
甲烷
纳米技术
化学工程
复合材料
化学
物理
工程类
复合数
生物
病理
医学
古生物学
有机化学
量子力学
替代医学
沉积物
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Journal of Vacuum Science & Technology B Nanotechnology and Microelectronics Materials Processing Measurement and Phenomena 作者:J. Chong; R. F. Kopf; J.S. Kaufman; Chen Xu; M. Cappuzzo; et al 出版日期:2025-07-30 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)