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 Effects of SF 6 Plasma Treatment Time on the Electrical Performance and Bias Stability of Dual-Gate ITZO Thin-Film Transistors 相关领域
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期刊：IEEE Transactions on Electron Devices 作者：Tan Zhang; Yuxiong Li; Zhongming Zeng; Shaocong Lv; Qian Xin; et al 出版日期：2026-03-04 |
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