Electron-impact silane dissociation and deposition rate relationship in the PECVD of microcrystalline silicon thin films

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标题	[高分] Electron-impact silane dissociation and deposition rate relationship in the PECVD of microcrystalline silicon thin films
网址	http://jp4.journaldephysique.org/10.1051/jp4:2001390/pdf
DOI	10.1051/jp4:2001390 doi
其它	期刊：Le Journal de Physique IV 作者：E. Amanatides; D. E. Rapakoulias; D. Mataras 出版日期：2007-06-27
求助人	缥缈的铅笔在 2026-04-13 20:20:52 发布自江苏，悬赏 50 积分
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