Chemical-mechanical polishing improvementsand subsurface damage elimination for Cz grown (010) β-Ga2O3 substrates

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标题	Chemical-mechanical polishing improvementsand subsurface damage elimination for Cz grown (010) β-Ga2O3 substrates Cz生长（010）β-Ga2O3衬底化学机械抛光改进及亚表面损伤消除相关领域材料科学抛光化学机械平面化冶金复合材料
网址	https://doi.org/10.1016/j.mssp.2025.109341
DOI	10.1016/j.mssp.2025.109341 doi
其它	期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Robert M. Lavelle; W.J. Everson; Daniel Erdely; Luke A. M. Lyle; Scott W. Pistner; et al 出版日期：2025-01-31
求助人	46552 在 2025-07-19 19:54:51 发布自福建，悬赏 10 积分
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