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Doping density, not valency, influences catalytic metal-assisted plasma etching of silicon 影响硅催化金属辅助等离子体刻蚀的是掺杂密度,而不是价态
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期刊:Materials Horizons 作者:Julia B. Sun; Namphung Peimyoo; James O. Douglas; Benjamin D. Almquist 出版日期:2023-01-01 |
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