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标题
Doping density, not valency, influences catalytic metal-assisted plasma etching of silicon
影响硅催化金属辅助等离子体刻蚀的是掺杂密度，而不是价态
相关领域
价 材料科学 蚀刻（微加工） 硅 兴奋剂 金属 等离子体 等离子体刻蚀 光电子学 化学工程 纳米技术 冶金 图层（电子） 语言学 哲学 工程类 物理 量子力学
网址
https://doi.org/10.1039/d3mh00649b
AI链接 rsc.org nih.gov nih.govdoi.org
DOI
10.1039/d3mh00649b doi
其它 期刊：Materials Horizons
作者：Julia B. Sun; Namphung Peimyoo; James O. Douglas; Benjamin D. Almquist
出版日期：2023-01-01
求助人
guyutian 在 2025-08-28 23:17:29 发布，悬赏 10 积分
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