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 In-situ high temperature micro-Raman investigation of annealing behavior of high-pressure phases of Si 硅高压相退火行为的原位高温显微拉曼研究
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期刊：Journal of Applied Physics 作者：Sowjanya Mannepalli; Kiran Sri Rama Narasimha Mangalampalli 出版日期：2019-06-11 |
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