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 Revealing Structure-Driven Performance of Molecular-Atomic Layer Deposited Resists for Extreme Ultraviolet Lithography through In Situ Analysis 相关领域
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期刊：ACS Nano 作者：Thi Thu Huong Chu; Dan N. Le; Minjong Lee; Dushyant M. Narayan; Nikhil Tiwale; et al 出版日期：2026-09-03 |
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(2025-6-4)
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