Vertically tailored hybrid multilayer EUV photoresist with vertical molecular wire structure

光刻胶 极紫外光刻 材料科学 光电子学 光学 纳米技术 物理 图层(电子)
作者
Myung Mo Sung,Hyeonseok Ji,Jaehyuk Lee,Jinho Ahn,Chang Gyoun Kim,Sangsul Lee,Yasin Ekinci,Prajith Karadan,Dimitrios Kazazis
标识
DOI:10.1117/12.3009753

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