Research on Interface Properties of Thermally Grown SiO2 and ALD SiO2 Stacked Structures

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标题	Research on Interface Properties of Thermally Grown SiO2 and ALD SiO2 Stacked Structures 热生长SiO2和ALD SiO2叠层结构界面性能的研究相关领域材料科学原子层沉积光电子学电容器制作半导体泄漏（经济）氧化物热的纳米技术图层（电子）电压电气工程医学替代医学物理工程类病理气象学冶金经济宏观经济学
网址	https://doi.org/10.1149/2162-8777/acd1ae
DOI	10.1149/2162-8777/acd1ae doi
其它	期刊：ECS journal of solid state science and technology 作者：Shuai Li; Jun Luo; Tianchun Ye 出版日期：2023-05-01
求助人	薄荷加冰在 2024-04-24 17:22:44 发布自北京，悬赏 10 积分
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