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[求助补充材料] Enhanced electrophoretic deposition of hydrophobic BiVO4 photocatalytic coatings using Cu2+ ions as stabilizing agent
Cu2+离子为稳定剂的疏水性BiVO4光催化涂层的增强电泳沉积
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期刊:Materials today chemistry 作者:D.B. Hernández-Uresti; Miguel A. Ruiz‐Gómez; Alejandro Vázquez; Alejandro Vázquez; S. Obregón 出版日期:2024-06-01 |
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