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 Double patterning with dual hard mask for 28-nm node devices and below 适用于28nm及以下节点器件的双硬掩模双图案化
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期刊：Journal of Micro/Nanolithography MEMS and MOEMS 作者：Hubert Hody; Vasile Paraschiv; E. Vecchio; S. Locorotondo; Gustaf Winroth; et al 出版日期：2013-10-01 |
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