Wet scandium etching for hard mask formation on a silicon substrate

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标题	Wet scandium etching for hard mask formation on a silicon substrate 用于在硅衬底上形成硬掩模的湿式钪蚀刻相关领域微电子蚀刻（微加工）钪硅材料科学基质（水族馆）纳米技术各向同性腐蚀制作光电子学半导体等离子体刻蚀纳米电子学干法蚀刻溅射反应离子刻蚀平版印刷术图层（电子）薄膜冶金医学海洋学替代医学病理地质学
网址	https://doi.org/10.1016/j.tsf.2022.139543 AI链接 arxiv.org arxiv.orgdoi.org
DOI	10.1016/j.tsf.2022.139543 doi
其它	期刊：Thin Solid Films 作者：Julia Bondareva; E. R. Timofeeva; Alexandr Anikanov; Maxim Krasilnikov; М.В. Шибалов; et al 出版日期：2022-10-13
求助人	丘比特在 2025-06-03 11:15:03 发布，悬赏 10 积分
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