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标题
Investigation of ionizing radiation mechanisms on HfO2-based ferroelectric thin-film memories with various configurations
不同构型HfO2基铁电薄膜存储器的电离辐射机理研究
相关领域
电离辐射 材料科学 辐射 铁电性 光电子学 薄膜 工程物理 辐照 纳米技术 光学 物理 核物理学 电介质
网址
https://doi.org/10.1007/s10854-024-12033-5
DOI
10.1007/s10854-024-12033-5 doi
其它 期刊：Journal of Materials Science Materials in Electronics
作者：Wanli Zhang; Guangliang Wan; Yanrui Lin; Junxiong Leng; Hongfei Wei; et al
出版日期：2024-02-01
求助人
hunter 在 2025-06-30 17:25:59 发布自北京，悬赏 10 积分
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