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 Synergistic effect of 1,2,4-triazole and phytic acid as inhibitors on copper film CMP for ruthenium - based copper interconnected and the surface action mechanism analysis 1,2,4-三唑和植酸作为抑制剂对钌基铜互连铜膜CMP的协同效应及表面作用机理分析
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期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Fu Luo; Xinhuan Niu; Han Yan; Yinchan Zhang; Minghui Qu; et al 出版日期：2022-12-19 |
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