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 Subsurface damage from helium ions as a function of dose, beam energy, and dose rate 氦离子的亚表面损伤作为剂量、束流能量和剂量率的函数
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures Processing Measurement and Phenomena 作者：Richard H. Livengood; Shida Tan; Yuval Greenzweig; John Notte; Shawn McVey 出版日期：2009-11-01 |
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