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  Effects of deep wet etching in HF/HNO_3 and KOH solutions on the laser damage resistance and surface quality of fused silica optics at 351 nm 在HF/HNO_3和KOH溶液中深度湿法刻蚀对351nm熔石英光学器件抗激光损伤性能和表面质量的影响
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期刊：Optics Express 作者：Mathilde Pfiffer; Philippe Cormont; Evelyne Fargin; Bruno Bousquet; Marc Dussauze; et al 出版日期：2017-02-21 |
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