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  Effect of Nitrogen Partial Pressure on the Structural, Mechanical, and Electrical Properties of (CrHfNbTaTiVZr)N Coatings Deposited by Reactive Magnetron Sputtering 氮分压对反应磁控溅射(CrHfNbTaTiVZr)N涂层结构、力学和电学性能的影响
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期刊：Coatings 作者：Du‐Cheng Tsai; Erh-Chiang Chen; Zue‐Chin Chang; Fuh‐Sheng Shieu 出版日期：2022-03-24 |
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