标题 |
Identifying extreme ultraviolet lithography attenuated phase shifting mask absorber materials using effective media approximation modeling
利用有效介质近似模型识别极紫外光刻衰减相移掩模吸收材料
相关领域
极紫外光刻
光学
平版印刷术
材料科学
极端紫外线
电介质
相(物质)
堆栈(抽象数据类型)
光刻
光电子学
物理
计算机科学
量子力学
程序设计语言
激光器
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DOI | |
其它 |
期刊:Journal of Vacuum Science & Technology B 作者:Rajiv N. Sejpal; Bruce W. Smith 出版日期:2021-12-01 |
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