| 标题 |
 Modulation of the effective work function of TiN metal gate for PMOS application PMOS应用中TiN金属栅极有效功函数的调制
相关领域
金属浇口
材料科学
工作职能
退火（玻璃）
金属
PMOS逻辑
阈值电压
氮化钛
光电子学
锡
纳米技术
电子工程
电气工程
栅氧化层
晶体管
电压
图层（电子）
冶金
氮化物
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of Semiconductors 作者：Kai Han; Xueli Ma; Hong Yang; Wenwu Wang 出版日期：2013-08-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
SYLH
挖掘机
cdercder
冰魂
hjyylab
个性归尘
小茄子爷爷
昏睡的蟠桃
孙燕
hanzhipad
dodo
科研助手6
wangrblzu
coolkid
iNk
遇上就这样吧
妖娃娃
MX
从容芮
一一
皖公网安备34019202002308
