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标题
Plasma-enhanced Atomic Layer Deposition of TaN Film and Its Resistance to Copper Diffusion
等离子体增强原子层沉积TaN薄膜及其抗铜扩散性能
相关领域
材料科学 铜 图层（电子） 扩散 原子层沉积 等离子体 沉积（地质） 扩散阻挡层 化学工程 冶金 复合材料 热力学 工程类 物理 古生物学 量子力学 沉积物 生物
网址
https://www.cjmr.org/EN/10.11901/1005.3093.2017.799
DOI
10.11901/1005.3093.2017.799 doi
其它 期刊：Cailiao yanjiu xuebao
作者：Yongping Wang; Zi-Jun Ding; Bao Zhu; Wenjun Liu; Shi‐Jin Ding
出版日期：2019-02-27
求助人
姜糊 在 2025-01-12 15:39:07 发布自广东，悬赏 10 积分
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